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倒置金屬分析顯微鏡IE200M

操作簡便，附件齊全，廣泛應(yīng)用于教學(xué)科研金相分析、半導(dǎo)體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領(lǐng)域。

高精度粗微動調(diào)焦機構(gòu)

采用底手位粗微調(diào)同軸調(diào)焦機構(gòu)，左右側(cè)均可調(diào)節(jié)，微調(diào)精度高，手動調(diào)節(jié)簡單方便，用戶能夠輕松得到清晰舒適的圖像。粗調(diào)行程為38mm，微調(diào)精度0.002。

大尺寸機械移動平臺

采用180×155mm的大尺寸平臺，右手位設(shè)置，符合常規(guī)人群操作習(xí)慣。用戶操作過程中，便于調(diào)焦機構(gòu)與平臺移動的操作切換，為用戶提供更加高效的工作環(huán)境。

落射柯拉照明系統(tǒng)

落射式柯拉照明系統(tǒng)，帶可變孔徑光欄和中心可調(diào)視場光欄，自適應(yīng)寬電壓100V-240V，6V30W鹵素?zé)?，光強連續(xù)可調(diào)。

技術(shù)規(guī)格